">- 直接進樣分析質譜(DAMS)
光譜
- 等離子體發射光譜分析(ICP-OES)
- 直讀光譜分析(AES)
- 原子熒光光譜分析(AFS)
- 近紅外光譜分析(NIR)
- 傅里葉變換紅外光譜分析(FTIR)
- 激光誘導擊穿光譜分析(LIBS)
- X射線熒光光譜分析(XRF)
- 元素分析
- 紅外成像分析
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- 便攜氣相色譜分析(GC)
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理化分析
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其他
LGA-9100激光氣體分析儀
LGA-9100激光氣體分析儀是基于半導體激光吸收光譜(DLAS)技術,能夠在高溫、高粉塵、高腐蝕等惡劣的工況下對氣體濃度進行檢測分析,具有智能化程度高、安全等級高、響應速度快、測量精度高、維護方便等特點。
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LGA-8500激光氣體分析儀
LGA-8500激光氣體分析儀采用一體化隔爆結構設計,整體緊湊,可靠性高,防爆等級為Exd ⅡC T6。產品技術中引入“功能安全”理念,根據IEC 61508標準,增加了軟硬件安全機制,提高系統失效診斷能力,系統通過SIL2安全完整性等級的專業認證,產品廣泛適用于石化、化工、冶金等行業,特別適合產品可靠性、穩定性和安全性要求高的場合。
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LGA-6100激光氣體分析儀
LGA-6100激光氣體分析儀基于半導體激光吸收光譜(DLAS)技術,無需采樣預處理系統,能夠在高溫、高粉塵、高腐蝕等惡劣的環境下進行原位(in-situ)氣體濃度測量的高端分析儀表。LGA-6100激光氣體分析儀采用隔爆設計,無需對儀表進行正壓吹掃,提高儀表的應用適應性,為缺乏正壓氣源或氣源壓力不穩定的應用場合提供了完整的防爆選擇方案。
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LGA-8100激光氣體分析儀
LGA-8100激光氣體分析儀是基于半導體激光吸收光譜(DLAS)技術,無需采樣預處理系統,能夠在高溫、高粉塵、高腐蝕等惡劣的環境下進行原位(in-situ)氣體濃度測量的高端分析儀表,采用聚光科技牽頭起草的國家標準及國際標準。
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LGA-6500激光氣體分析儀
LGA-6500激光分析儀是基于半導體激光吸收光譜(DLAS)技術的旁路過程氣體分析產品,可實現對高溫、高壓、強腐蝕性的過程氣體進行旁路處理后的在線測量,具有響應速度快、測量精度高、維護方便、可靠性高等特點,產品廣泛適用于冶金、石化、化工等行業。
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LGA-4100激光氣體分析儀
基于半導體激光吸收光譜(DLAS)技術的LGA-4100激光氣體分析儀是采用一體化設計、高集成度的激光氣體分析系統。系統通過無須采樣預處理的原位(In-Situ)測量方式,能對各類工業過程氣體、環保排放煙氣等過程氣體進行快速、準確和可靠的測量,為各行業氣體在線監測提供了最佳解決方案。
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LGA-4500激光氣體分析儀
LGA-4500系列激光氣體分析儀是基于半導體吸收光譜(DLAS)技術的旁路過程氣體分析產品,可對各類高粉塵、高壓過程氣體進行旁路處理后的在線分析。
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LGA-4500IC激光微量氣體分析儀
LGA-4500IC 激光微量氣體分析儀是聚光科技在激光氣體分析領域的最新成果,通過將半導體激光吸收光譜和Herriott 腔增強技術完美結合,使得產品的檢測靈敏度有數百倍的提升,為天然氣、石化、化工、鋼鐵等行業的微量氣體分析提供最佳的解決方案。
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LGA-3000激光氣體分析儀
LGA-3000
分布式激光氣體分析系統是基于半導體激光吸收光譜(
DLAS
)技術,并采用分布式測量方式,可同時對多個測量點的氣體濃度進行實時分析,具有高性價比的激光氣體分析產品。
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